特許
J-GLOBAL ID：200903023830145554
パターン特徴抽出方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-086362
公開番号（公開出願番号）：特開平5-307609
出願日： 1991年03月26日
公開日（公表日）： 1993年11月19日
要約：
【要約】【目的】 例えば、電子顕微鏡等の電子ビームを用いたパターン認識やパターン計測において、パタン表面の凹凸の少ないパターン評価を効果的に行なう方法を提案する。【構成】 第1のステップ2における対数変換処理を通じて画像の非線形画像強調が行なわれる。次の第2のステップ3におけるN値化処理を通じて、画像の濃淡値が複数の領域に代表させられる。第3のステップにおける偏微分処理4を通じて、複数の濃度値の領域の境界が識別される。これにより、画像の特徴が抽出される。
請求項（抜粋）：
画像データの各画素を対数変換処理する第1のステップと、前記第1のステップで対数変換処理された画像データをN値化処理する第2のステップと、前記第2のステップでN値化された画像データを少なくとも1方向に偏微分処理して境界を抽出する第3のステップと、を含むことを特徴とするパターン特徴抽出方法。
IPC (3件)：
G06F 15/70 460
, G01B 11/24
, G06F 15/62 405
