特許

J-GLOBAL ID：200903023834216871

マルチビーム走査装置

発明者： 富田 泰正
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 武 顕次郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-215377
公開番号（公開出願番号）：特開2001-042238
出願日： 1999年07月29日
公開日（公表日）： 2001年02月16日
要約：

【要約】【課題】 複数の光ビームの副走査方向のビームピッチの微調整する場合に、常に平行光にして収差を防止し、半導体レーザ及びコリメートレンズが高い取り付け精度が要求されることなく安価に構成し、外部振動による位置ずれを防止する。【解決手段】 ビーム合成素子7はベース11に固定され、ベース11はZ方向に配置された少なくとも2本の調整ネジ8a、8bにより副走査方向に移動可能に、かつXZ面に対して傾動可能に支持されるとともに、圧縮バネ9により副走査方向に付勢されている。2本の調整ネジ8a、8bを同じ距離だけ移動することにより、ビーム合成素子7を透過、反射した2つのビームの副走査方向の間隔(ビームピッチ)dを調整し、また、2本の調整ネジ8a、8bを異なる距離だけ移動することにより、ビーム合成素子7を透過、反射した2つのビームの角度θを調整する。

請求項（抜粋）：

複数の半導体レーザと、前記半導体レーザの各出射ビームをそれぞれ平行化する複数のコリメートレンズとを備え、前記複数の半導体レーザ及びコリメートレンズの各光軸が直交するように配置されたマルチビーム走査装置において、前記複数の半導体レーザ及びコリメートレンズの各光軸が直交する位置に配置されて各光軸が平行になるように各ビームを合成するビーム合成素子と、前記ビーム合成素子により合成される複数のビームの間隔を調整する方向と前記複数のビームの角度を調整する方向に前記ビーム合成素子を調整する調整ネジと、前記調整ネジがビーム間隔を調整する方向に前記ビーム合成素子を付勢する付勢部材と、を備えたことを特徴とするマルチビーム走査装置。

IPC (3件)：

G02B 26/10 ,  B41J 2/44 ,  H04N 1/113

FI (3件)：

G02B 26/10 B ,  B41J 3/00 D ,  H04N 1/04 104 A

Fターム (30件)：

2C362AA48 ,  2C362AA49 ,  2C362BA58 ,  2C362BA61 ,  2C362BA85 ,  2C362BA90 ,  2C362DA03 ,  2C362DA09 ,  2C362DA17 ,  2H045AA01 ,  2H045BA22 ,  2H045BA33 ,  2H045CA01 ,  2H045CA33 ,  2H045CA53 ,  2H045DA02 ,  2H045DA04 ,  2H045DA44 ,  5C072AA03 ,  5C072CA06 ,  5C072DA02 ,  5C072DA04 ,  5C072DA21 ,  5C072DA23 ,  5C072HA02 ,  5C072HA06 ,  5C072HA10 ,  5C072HA13 ,  5C072JA07 ,  5C072XA05