特許
J-GLOBAL ID：200903023834226230
処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-081330
公開番号（公開出願番号）：特開平6-267874
出願日： 1993年03月16日
公開日（公表日）： 1994年09月22日
要約：
【要約】【目的】 不活性ガスの消費量を少なくでき、かつ処理能力の向上及び装置の小型化を図る。【構成】 プロセスチューブ1に連設される第1のシェル10に第2のシェル20を連設する。第1のシェル10にN2 ガス導入管13を接続すると共に、この第1のシェル10内に移送機構11のウエハボート7を移動可能に収納する。第2のシェル20内に、移送機構11の駆動部11bを配置する。これにより、第1のシェル10の容量を小さくして、ガスの消費量を少なくすることができ、第1のシェル10内を短時間にN2 ガス雰囲気に置換して、ウエハ表面の自然酸化膜の形成を防止することができる。
請求項（抜粋）：
被処理体に所定の処理を施す処理室と、この処理室に対して上記被処理体を収納した保持体を挿脱する移送機構とを有する処理装置において、上記処理室に連設される第1の容器と、この第1の容器に連設される第2の容器とを具備し、上記第1の容器に、所定のガスの導入部を設けると共に、この第1の容器内に、上記移送機構の保持体載置部を移動可能に収納し、上記第2の容器内に、上記移送機構の駆動部を配置してなることを特徴とする処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/205
, H01L 21/22
, H01L 21/31
