表面にアモルファス-ニッケル-リンから成る被膜層を形成して成る被加工物の加工方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：竹内澄夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-053711
公開番号（公開出願番号）：特開平9-223312
出願日： 1996年02月19日
公開日（公表日）： 1997年08月26日
要約：

【要約】【課題】磁気ハードデイスク基板等の被加工物表面に形成したアモルファス-ニッケル-リンから成る被膜層の力学的強度及び耐食性を保持しつつ、強磁性物質との付着性を向上し、被加工物表面上で、強磁性物質を所望の方向に容易に磁化させることができる、表面にアモルファス-ニッケル-リンから成る被膜層を形成して成る被加工物の加工方法を提供する。【解決手段】磁気ハードデイスク基板(10)等の被加工物の表面に形成したアモルファス-ニッケル-リンから成る被膜層(12)の表面を研磨する工程から成り、研磨により形成された溝(17)に沿ってニッケル粒子(13)と、ニッケル及びリンの化合物結晶(14)とを発生させることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

表面にアモルファス-ニッケル-リンから成る被膜層を形成して成る被加工物の加工方法であって、前記被膜層の表面を研磨する工程から成り、前記研磨により前記被膜層の表面付近のみにニッケル粒子と、ニッケル及びリンの化合物結晶とを発生させることを特徴とする、加工方法。

IPC (3件)：

G11B 5/84 , B24B 21/00 , G11B 5/82

FI (4件)：

G11B 5/84 A , G11B 5/84 Z , B24B 21/00 B , G11B 5/82

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平4-028013
特開平4-095221
特開平4-195716

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