特許
J-GLOBAL ID：200903023859844125
露光用マスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-265863
公開番号（公開出願番号）：特開平9-106063
出願日： 1995年10月13日
公開日（公表日）： 1997年04月22日
要約：
【要約】【課題】 最適な位相シフタ配置によって、島状パターンに対してもより精密なデバイスパターンの形成を可能にする。【解決手段】 1/4ピッチアレイ方式で配置された島状の光透過部とそれを取り巻く遮光部を有するDRAMセル形成用の露光用マスクにおいて、光透過部のパターンが隣接するパターン群のうち、パターンの延在方向端部が最小間隔で対向する一対の光透過部のいずれか一方に透過光の位相を180度ずらすための位相シフタ層が形成されている。
請求項（抜粋）：
周期的に配置された島状の光透過部とそれを取り巻く遮光部を有する露光用マスクにおいて、前記光透過部のパターンが隣接するパターン群のうち、パターンの延在方向端部が最小間隔で対向する一対の光透過部のいずれか一方に位相シフタ層が形成されていることを特徴とする露光用マスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
