特許

J-GLOBAL ID：200903023861807911

アレニルエーテルの製造方法

発明者： 高橋 保
出願人/特許権者： 科学技術振興事業団
代理人 (1件)： 小林 純子 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-198651
公開番号（公開出願番号）：特開2003-012586
出願日： 2001年06月29日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
要約：

【要約】【課題】 アレニルエーテル類を選択的、かつ、一段階の反応で得ること。【解決手段】 金属化合物存在下、オキサメタラシクロペンテン(2)と、プロパルギルハライド(3)とを反応させ、アレニルエーテル(1)を得る。【化1】(式中、R1、R2、R3、R4及びAは、それぞれ、同一又は異なって、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基等を表す。Xはハロゲン原子、Mは遷移金属、L1及びL2は配位子を表す。)

請求項（抜粋）：

下記式(1)で示されるアレニルエーテルの製造方法であって、【化1】(式中、R1、R2、R3及びR4は、それぞれ、互いに独立し、同一または異なって、水素原子;置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基;置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基;置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基;置換基を有していてもよいアミノ基;置換基を有していてもよいシリル基、又は水酸基であり、ただし、R3及びR4は、互いに架橋してC4〜C20飽和又は不飽和環を形成してもよく、前記飽和又は不飽和環は、酸素原子、硫黄原子、又は式-N(B)-で示される基(式中、Bは水素原子又はC1〜C20炭化水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換基を有していてもよく、Aは、水素原子;置換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基;置換基を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基;置換基を有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基;置換基を有していてもよいアミノ基;置換基を有していてもよいシリル基、又は水酸基である。)周期表第4〜15族の金属を含む金属化合物存在下、下記式(2)で示されるオキサメタラシクロペンテンと、【化2】(式中、R1、R2、R3及びR4は、上記の意味を有する。Mは、周期表の第3族〜第5族またはランタニド系列の金属を示し;L1及びL2は、互いに独立し、同一又は異なって、アニオン性配位子を示し、ただし、L1及びL2は、架橋されていてもよい。)下記式(3)で示されるプロパルギルハライドと【化3】(式中、Aは、上記の意味を示す。Xは、ハロゲン原子である。)を反応させることを特徴とするアレニルエーテルの製造方法。

IPC (3件)：

C07C 41/01 ,  C07C 43/166 ,  C07B 61/00 300

FI (3件)：

C07C 41/01 ,  C07C 43/166 ,  C07B 61/00 300

Fターム (6件)：

4H006AA02 ,  4H006AC43 ,  4H006GN24 ,  4H006GP01 ,  4H039CA61 ,  4H039CH70