特許

J-GLOBAL ID：200903023874904720

ジケトピロロピロール化合物を主成分とする顔料分散剤及び顔料配合物

発明者： ヨアヒム・ウエーバー ,  フエリツクス・ベンデリン・グリム ,  エルビン・デイーツ
出願人/特許権者： クラリアント・ゲーエムベーハー
代理人 (1件)： 川口 義雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-362974
公開番号（公開出願番号）：特開2001-214085
出願日： 2000年11月29日
公開日（公表日）： 2001年08月07日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、改良された着色及びレオロジー特性を有する新規な顔料分散剤及び顔料配合物、その製造方法及び高分子量材料を着色するためのその使用を提供する.【解決手段】 本発明は、式(I):【化1】(式中、Qは式(Ia):【化2】を有する基であり、sは0.1〜4.0の数であり、nは0〜2.0の数である)を有する新規な顔料分散剤、並びに有機ベース顔料及び式(I)を有する顔料分散剤を含む顔料配合物を提供する。

請求項（抜粋）：

式(I):【化1】[式中、Qは式(Ia):【化2】のジケトピロロピロール化合物の基であり;sは0.1〜4.0の数であり;nは0〜2の数であり;E+はH+、または周期表の主族1〜5及び遷移族1,2,4〜8の金属カチオンMm+(ここで、mは1、2または3である)の等価Mm+/m、またはアンモニウムイオンN+R9R10R11R12{式中、置換基R9、R10、R11及びR12は相互に独立して、それぞれ水素原子、C1-C30アルキル、C2-C30アルケニル、C5-C30シクロアルキル、フェニル、(C1-C8)アルキルフェニル、(C1-C4)アルキレンフェニル、または式-[CH(R80)-CH(R80)-O]k-H(ここで、kは1〜30の数であり、2つの基R80は相互に独立して水素、C1-C4アルキル、またはk>1ならばその組合せである)の(ポリ)アルキレンオキシ基であり、R9、R10、R11及び/またはR12のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、フェニルまたはアルキルフェニルはアミノ、ヒドロキシル及び/またはカルボキシルで置換されていてもよく、置換基R9及びR10は4級窒素原子と一緒になって、所望によりO、S及びNからなる群から選択される追加ヘテロ原子を含む5〜7員飽和環系を形成し得、または置換基R9、R10及びR11は4級窒素原子と一緒になって、所望によりO、S及びNからなる群から選択される追加ヘテロ原子を含み、所望により別の環が融合していてもよい5〜7員飽和環系を形成し得る}であり;或いはE+は式(Ic):【化3】{式中、R15、R16、R17及びR18は相互に独立して、水素または式-[CH(R80)-CH(R80)O]k-H(式中、kは1〜30の数であり、2つの基R80は相互に独立して水素、C1-C4アルキル、またはk>1の場合にはその組合せである)の(ポリ)アルキレンオキシ基であり、qは1〜10の数であり、pは≦q+1の条件で1〜5の数であり、Tは直鎖または分枝鎖C2-C6アルキレン基であるか、q>1の場合には直鎖または分枝鎖C2-C6アルキレン基の組合せであり得る}のアンモニウムイオンを規定し;2つの基Zは同一でも異なっていてもよく、Zは定義Z1またはZ4を有し、Z1は式(Ib):-[X-Y]qR3 (Ib)(式中、XはC2-C6アルキレン基、C5-C7シクロアルキレン基またはその組合せであり、これらの基は1〜4個のC1-C4アルキル基、ヒドロキシル基、(C1-C4)ヒドロキシアルキル基及び/または1〜2個の別のC5-C7シクロアルキル基で置換され得、qが>1のときには前記定義の組合せであってもよく、Yは-O-、【化4】または-NR2-基であり、qが>1のときには前記定義の組合せであってもよく、qは1〜10の数であり、R2及びR3は相互に独立して、水素原子、置換もしくは未置換であって部分フッ素化もしくは過フッ素化の直鎖または分枝鎖(C1-C20)アルキル基、置換もしくは未置換のC5-C7シクロアルキル基、または置換もしくは未置換であって部分フッ素化もしくは過フッ素化の(C2-C20)アルケニル基であり、前記置換基はヒドロキシル、フェニル、シアノ、クロロ、ブロモ、アミノ、C2-C4アシルまたはC1-C4アルコキシであり、またはR2及びR3は窒素原子と一緒になって、所望により環内に1〜2個の追加窒素、酸素または硫黄原子またはカルボニル基を含む飽和、不飽和または芳香族のヘテロ環式5〜7員環を形成し、前記環は所望により1〜3個のOH、フェニル、CN、Cl、Br、C1-C4アルキル、C1-C4アルコキシ、C2-C4アシル及びカルバモイル基で置換され、所望により1〜2個のベンゾ融合した飽和、不飽和または芳香族の炭素環またはヘテロ環を有している)の基であり;Z4は水素、ヒドロキシル、アミノ、フェニル、(C1-C4)アルキレンフェニル、C5-C7シクロアルキルまたはC1-C20アルキルであり、前記フェニル環、前記(C1-C4)アルキレンフェニル基及び前記アルキル基はCl、Br、CN、NH2、OH、C6H5、モノ-,ジ-もしくはトリ-C1-C4アルコキシ置換C6H5、カルバモイル、C2-C4アシル及びC1-C4アルコキシからなる群から選択される1個以上の置換基で置換されていてもよく、また前記フェニル環及び前記(C1-C4)アルキレンフェニル基はNR2R3で置換されていてもよく、または前記アルキル基は過フッ素化または部分フッ素化されている]を有する顔料分散剤。

IPC (8件)：

C09B 67/20 ,  B01F 17/12 ,  B01F 17/26 ,  B01F 17/32 ,  C09D 7/12 ,  C09D 11/00 ,  C09D 17/00 ,  C09D201/00

FI (10件)：

C09B 67/20 L ,  C09B 67/20 A ,  C09B 67/20 F ,  B01F 17/12 ,  B01F 17/26 ,  B01F 17/32 ,  C09D 7/12 ,  C09D 11/00 ,  C09D 17/00 ,  C09D201/00