特許

J-GLOBAL ID：200903023884256130

透明帯電防止プレートの製造方法

発明者： 西村 善雄 ,  大塚 敏治
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-196577
公開番号（公開出願番号）：特開平8-057415
出願日： 1994年08月22日
公開日（公表日）： 1996年03月05日
要約：

【要約】【目的】紫外線又は可視光線の照射によって容易に硬化して硬化被膜を形成し、得られた硬化被膜は基材との接着性及び密着性が優れると共に、透明性、導電性、耐擦傷性が優れた透明帯電防止プレートの製造方法を提供する。【構成】基材上に、重合体(a)、1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有する化合物(b)、1分子中に少なくとも2個の(メタ)アクリロイル基を有する疎水性多官能(メタ)アクリレート化合物(c)、導電性粉末(d)及び光重合開始剤(e)からなる組成物(A)を下塗り層として基材上に塗布し、加熱硬化する第一の工程と、第一の工程により形成された硬化被膜に、1分子中に少なくとも1個の(メタ)アクリロイル基を有する親水性単量体(f)及び光重合開始剤(e)からなる組成物(B)を接触させた状態で活性光線を照射して光硬化する第二の工程よりなる。

請求項（抜粋）：

基材上に、(a)下記一般式(1)で表される構成単位を有する重合体、(b)1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有する化合物、(c)1分子中に少なくとも2個の(メタ)アクリロイル基を有する疎水性多官能(メタ)アクリレート化合物、(d)導電性粉末及び(e)光重合開始剤からなる組成物(A)を下塗り層として基材上に塗布し、加熱硬化する第一の工程と、第一の工程により形成された硬化被膜に、(f)1分子中に少なくとも1個の(メタ)アクリロイル基を有する親水性単量体及び(e)光重合開始剤からなる組成物(B)を接触させた状態で活性光線を照射して光硬化する第二の工程よりなる透明帯電防止プレートの製造方法。【化1】(式中、R1 は水素又はメチル基を示し、R2 はカルボキシル基を有する側鎖を示す)

IPC (8件)：

B05D 7/24 302 ,  B05D 7/24 301 ,  B29C 71/04 PPM ,  C08G 59/40 NJP ,  C08J 7/04 ,  C09D 5/00 PPF ,  C09D 5/00 PPM ,  C09D163/00 PKS