特許

J-GLOBAL ID：200903023910773734

テラヘルツパルス光計測方法及び装置

発明者： 岩本 敏志
出願人/特許権者： 株式会社栃木ニコン ,  株式会社ニコン
代理人 (1件)： 四宮 通
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-175037
公開番号（公開出願番号）：特開2004-020352
出願日： 2002年06月14日
公開日（公表日）： 2004年01月22日
要約：

【課題】対象物体の2次元領域の各部位の全体に渡るテラヘルツパルス光の電場強度の時系列波形の実時間計測を行う。【解決手段】アンテナ56は、テラヘルツパルス光を試料100の2次元領域に一括照射し、その透過パルス光を電気光学結晶61の2次元領域が一括受光する。一次的にチャーピングされかつパルス光L55と同期したプローブパルス光が、結晶61の2次元領域に一括照射される。検光子65は、結晶61を通過してパルス光L55により偏光状態が変調されたプローブパルス光の特定偏光成分を抽出する。光ファイバ束66は、特定偏光成分のみ抽出されたプローブパルス光を、結晶61の各部位に対応するもの毎に、二次的にチャーピングしてそのパルス幅をそれぞれ拡大させる。光電変換素子アレイ67は、チャーピングの後のプローブパルス光を、それぞれ光電変換する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

テラヘルツパルス光を電気光学結晶に導びくとともに、一次的にチャーピングされかつ前記テラヘルツパルス光と同期したプローブパルス光を前記電気光学結晶に導き、 前記電気光学結晶を通過して前記テラヘルツパルス光により偏光状態が変調された前記プローブパルス光の特定偏光成分を抽出し、 偏光状態が変調された前記プローブパルス光に対して、そのパルス幅が拡大するように、前記特定偏光成分の抽出の前又は後に二次的にチャーピングを行い、 前記特定偏光成分の抽出及び前記二次的なチャーピングの後の前記プローブパルス光を光電変換することを特徴とするテラヘルツパルス光計測方法。

IPC (3件)：

G01N21/35 ,  G01J11/00 ,  G01N21/27

FI (3件)：

G01N21/35 Z ,  G01J11/00 ,  G01N21/27 A

Fターム (32件)：

2G059EE01 ,  2G059FF01 ,  2G059GG01 ,  2G059GG08 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ05 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ12 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ18 ,  2G059JJ19 ,  2G059KK04 ,  2G059LL01 ,  2G059MM01 ,  2G059MM09 ,  2G065AA04 ,  2G065AA12 ,  2G065AB02 ,  2G065AB09 ,  2G065AB14 ,  2G065AB22 ,  2G065AB23 ,  2G065BA01 ,  2G065BB02 ,  2G065BB12 ,  2G065BB14 ,  2G065BB25 ,  2G065BB31 ,  2G065BB39 ,  2G065BB50 ,  2G065BC03