特許

J-GLOBAL ID：200903023918335000

露光装置およびこれを用いたデバイス製造方法

発明者： 刑部 祐一
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-196536
公開番号（公開出願番号）：特開2001-023890
出願日： 1999年07月09日
公開日（公表日）： 2001年01月26日
要約：

【要約】【課題】 包囲手段における不均一な温度勾配の発生を防止する。【解決手段】 原板1のパターンを投影光学系2を介して基板3上に露光する露光装置において、装置の少なくとも一部を包囲する包囲手段23を設け、この包囲手段は少なくとも一部に、低い熱伝導率を有する物体で構成された断熱層と、高い熱伝導率を有する物体で構成された熱拡散層とを備える。

請求項（抜粋）：

原板のパターンを投影光学系を介して基板上に露光する露光装置において、装置の少なくとも一部を包囲する包囲手段を備え、この包囲手段は少なくとも一部に、低い熱伝導率を有する物体で構成された断熱層と、高い熱伝導率を有する物体で構成された熱拡散層とを具備することを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/22 ,  H01L 21/68

FI (3件)：

H01L 21/30 516 E ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/68 K

Fターム (13件)：

5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031HA02 ,  5F031HA50 ,  5F031JA02 ,  5F031KA05 ,  5F031MA27 ,  5F031NA20 ,  5F031PA11 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046DA26