特許

J-GLOBAL ID：200903023928683716

ガス置換方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイスの製造方法

発明者： 佐藤 達夫
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-375001
公開番号（公開出願番号）：特開2001-230202
出願日： 2000年12月08日
公開日（公表日）： 2001年08月24日
要約：

【要約】【課題】 ペリクル付きマスクにおけるペリクルとマスクとの間に形成される空間内のガスを効率良く安定して置換することができるガス置換方法及びガス置換装置、並びに露光方法及び露光装置を提供することを目的とする。【解決手段】 露光装置は、ペリクルPEが装着されたマスクMを収容する予備室7と、予備室7のガスを排気する排気装置80と、ペリクルPEの変位を計測する変位計測装置85と、予備室7内のガスの排気量を調整する制御部9とを備えている。予備室7内のガスを排気することにより空間GSのガス置換を行う際、制御部9は、変位計測装置80の計測結果に基づいてペリクルPEの変位が所定範囲になるように予備室7内のガスの排気量を調整することにより、ペリクルPEの破損を防ぎつつ安定したガス置換を行うことができる。

請求項（抜粋）：

薄膜を装着した基板を収容する密閉室内のガスを排気するに際し、該排気に伴う前記薄膜の変位が所定範囲になるように、前記密閉室内のガスの排気量を調整することを特徴とするガス置換方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/14 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

G03F 1/14 K ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 F ,  H01L 21/30 515 F