特許
J-GLOBAL ID:200903023937064786
感光性塩基発生体を有するフォトレジスト組成物
発明者:
,
,
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
合田 潔 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-282455
公開番号(公開出願番号):特開平7-134399
出願日: 1993年11月11日
公開日(公表日): 1995年05月23日
要約:
【要約】【目的】 本発明の目的は、集積回路製造に有用な改良されたリソグラフィ用フォトレジストを提供することにある。【構成】 本発明のフォトレジスト組成物は、たとえばベンジルカルバメートなどの感光性の塩基発生体と、ポリシアノカルボキシアルキルスチレンなどの重合体と、カルボキシル基などの塩基で開裂する置換基を有する化合物とを含む。【効果】 本発明により、感度とコントラスト値に優れたフォトレジスト組成物が得られる。
請求項(抜粋):
(i)感光性塩基発生体と、(ii)重合体と、(iii)塩基で開裂する置換基を有する塩基に不安定な化合物とを含む、感光性レジスト組成物。
IPC (3件):
G03F 7/004 503
, G03F 7/039
, H01L 21/027
引用特許:
前のページに戻る