特許

J-GLOBAL ID：200903023939476305

ビス(シラトラニルアルキル)ポリスルフィド等の製造方法およびビス(シラトラニルアルキル)ポリスルフィド等の混合物

発明者： 齋木 丈章 ,  岩井 亮 ,  アニール クマール トマール
出願人/特許権者： 東レ・ダウコーニング株式会社 ,  ダウ コーニング コーポレーション
代理人 (1件)： 久保田 芳譽
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-004762
公開番号（公開出願番号）：特開2008-169157
出願日： 2007年01月12日
公開日（公表日）： 2008年07月24日
要約：

【課題】イオウを使用せず硫化水素が発生しないビス(シラトラニルアルキル)ポリスルフィド等の製造方法等を提供する。【解決手段】触媒量のアルカリ金属アルコラート存在下でビス(トリアルコキシシリルアルキル)ポリスルフィドとトリエタノールアミンの加熱によるビス(シラトラニルアルキル)ポリスルフィドの製法、ビス(シラトラニルアルキル)ポリスルフィドと(シラトラニルアルキル)(トリアルコキシシリルアルキル)ジスルフィドの混合物、ビス(シラトラニルアルキル)ポリスルフィドと(シラトラニルアルキル)(トリアルコキシシリルアルキル)ジスルフィドとビス(トリアルコキシシリルアルキル)ポリスルフィドの混合物、それらの製法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

一般式(1):(R1O)3SiRSxRSi(OR1)3 (1) (式中、Rは炭素原子数1〜10のアルキレン基、R1は炭素原子数1〜4のアルキル基、xは2〜8の数である)で示されるビス(トリアルコキシシリルアルキル)ポリスルフィドと式(2): (HOCH2CH2)3N (2) で示されるトリエタノールアミンとを触媒量のアルカリ金属アルコラート存在下で加熱することにより、一般式(1)で示されるビス(トリアルコキシシリルアルキル)ポリスルフィド中のすべてのSi結合(OR1)3を(OCH2CH2)3Nで示される基に置換することを特徴とする 一般式(3): N(CH2CH2O)3SiRSxRSi(OCH2CH2)3N (3) (式中、R、xは前記どおりである)で示されるビス(シラトラニルアルキル)ポリスルフィドの製造方法。

IPC (1件)：

C07F 7/18

FI (1件)：

C07F7/18 V

Fターム (14件)：

4H049VN01 ,  4H049VP02 ,  4H049VQ18 ,  4H049VQ35 ,  4H049VQ89 ,  4H049VQ93 ,  4H049VR21 ,  4H049VR33 ,  4H049VR51 ,  4H049VS01 ,  4H049VT03 ,  4H049VT26 ,  4H049VU17 ,  4H049VW02

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開昭50-108225号公報
  
• 特公昭60-33838号公報
  
• 硫黄含有有機ケイ素化合物を含むマイクロゲル含有ゴムコンパウンド
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-189524   出願人：バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト

審査官引用 (3件)

• 特公昭60-033838
  
• 硫黄含有有機ケイ素化合物を含むマイクロゲル含有ゴムコンパウンド
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-189524   出願人：バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト
• ゴム混合物
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2008-551746   出願人：エボニックデグサゲーエムベーハー

引用文献：

審査官引用 (1件)

• ZHURNAL OBSHCHEI KHIMII, 1979, Vol. 49, P. 1285-1292