特許
J-GLOBAL ID:200903023948141790

回析性光学素子の成形法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 松浦 憲三
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-524300
公開番号(公開出願番号):特表平10-513575
出願日: 1996年01月31日
公開日(公表日): 1998年12月22日
要約:
【要約】所望の複レベル回折パターンの型(15)を、フォトリソグラフィ法を用いて石英原板(14)の鋳型表面上にエッチングし(50)、この石英原板(14)を鋳型の一部として組み付け(52)、プラスチック成形材料を鋳型(56)内及び石英原板(14)の鋳型表面に対して射出して回折性光学素子(24)を射出成形するする工程を含む、回折性光学素子(24)の製造方法。回折パターン(15)はVLSIフォトリソグラフィ法を用いて石英原板(14)上に形成されることが好ましい。
請求項(抜粋):
フォトリソグラフィ法を用いて原板素子の鋳型表面上に所望の回折パターンの型を形成し、 前記鋳型表面を有する前記原板素子を鋳型の一部として組み付け、 回折性光学素子を射出成形するために、前記鋳型の内部及び前記原板素子の前記鋳型表面に対して成形材料を射出する、 各工程を含み、 前記光学素子がその表面に所望の回折パターンを有するようにすることを特徴とする回折性光学素子の成形方法。
IPC (4件):
G02B 5/18 ,  B29C 45/37 ,  B29C 45/00 ,  G02B 27/02
FI (4件):
G02B 5/18 ,  B29C 45/37 ,  B29C 45/00 ,  G02B 27/02 Z
引用特許:
審査官引用 (4件)
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