特許
J-GLOBAL ID：200903023958434907
描画装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
松浦 孝
, 小倉 洋樹
, 野中 剛
, 虎山 滋郎
, 坪内 伸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-223087
公開番号（公開出願番号）：特開2008-046457
出願日： 2006年08月18日
公開日（公表日）： 2008年02月28日
要約：
【課題】装置全体のコストを抑えながらタスク時間を短縮する。【解決手段】回路パターンなどを描画可能な描画装置10において、1つの露光ユニット20を主走査方向(Y方向)移動可能に設置し、第1、第2描画テーブル18A、18Bを副走査方向(X方向)に沿って移動可能に並んで配置させる。そして、第1描画テーブル18Aにのせた基板SW1、第2描画テーブル18Bにのせた基板SW2に対して交互に描画処理を実行する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
光源と、
複数の被描画体をそれぞれ搭載する複数の描画テーブルと、
規則的に配列された複数の光変調素子から構成される1つの光変調器と、
前記複数の描画テーブルに対して前記光変調ユニットを走査させる走査手段と、
前記複数の描画テーブルに載せられた複数の被描画体に対し、前記光変調ユニットを制御して順に描画可能な描画処理手段と
を備えたことを特徴とする描画装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/20 501
, H01L21/30 503A
2H097AA03
, 2H097AB07
, 2H097LA09
, 5F046BA07
, 5F046CC01
