特許

J-GLOBAL ID：200903023959535502

ウエハの露光方法

発明者： 森山 徳生
出願人/特許権者： 沖電気工業株式会社
代理人 (1件)： 清水 守 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-256282
公開番号（公開出願番号）：特開平10-106921
出願日： 1996年09月27日
公開日（公表日）： 1998年04月24日
要約：

【要約】【課題】 2重露光用のレチクルブラインドの開口部の大きさを1チップ分とすることなく、2重露光の回数を低減することにより、縮小投影露光装置の処理能力を増加させることができるウエハの露光方法を提供する。【解決手段】 縮小投影露光装置は、照明系1と、この照明系1より発振した光線8を集光してウエハ6に照射する縮小投影部5と、光線8の集光位置にウエハ6を載置し、かつ移動可能なステージ7と、上記照明系1と縮小投影部5との間の光路に設けた第1のレチクルブラインド2と第2のレチクルブラインド3より構成される。そこで、一部分が欠けた状態で転写されるパターンの部分は、第2のレチクルブラインド3の遮光板によって、大半が遮光されているため、正常なパターンが形成されずに正常なチップとなることはない。

請求項（抜粋）：

縮小投影露光装置を用いて、レチクルに形成したパターンをウエハに転写する感光工程において、ウエハのエッジ近傍に生じる一部分が欠けた状態のパターン像を遮光することを特徴とするウエハの露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 514 C ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 E