フォトニック結晶とその作製方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：谷義一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-060839
公開番号（公開出願番号）：特開2000-258650
出願日： 1999年03月08日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
要約：

【要約】【課題】フォトニック結晶中に光の導波方向を制御し少ない導波損失で光を導波させる導波路を持たせること、またフォトニック結晶に対し少ない損失で光を入出射させる光入出射端を持たせること。【解決手段】基板101の表面にモールド102によりプレスして凹凸パターン103を形成する。次に、その凹凸パターンを有する基板をシュウ酸中で陽極酸化することにより、基板は周期的ナノホール構造104を有する金属酸化物薄膜105となる。この金属酸化物薄膜105に対してイオンビームを照射することにより、導波路構造となる溝106が形成される。これにより光の伝搬の中心部にランダムなホール配列が形成されることがない。また、この金属酸化物薄膜の外縁に対してイオンビームを照射することにより、光学波長の平坦さを有する端面による光入射出部を形成できる。

請求項（抜粋）：

光学波長の周期構造と光学波長の平坦さの側壁構造を有する金属酸化薄膜で作製されたことを特徴とするフォトニック結晶。

IPC (3件)：

G02B 6/13 , C30B 7/12 , G02B 6/122

FI (3件)：

G02B 6/12 M , C30B 7/12 , G02B 6/12 A

Fターム (8件)：

2H047PA22 , 2H047QA04 , 4G077AA03 , 4G077BB01 , 4G077CB05 , 4G077ED04 , 4G077FE15 , 4G077HA01

引用特許：

審査官引用 (1件)

低損失光及び光電子集積回路
公報種別：公表公報出願番号：特願平6-516248 出願人：マサチユセツツ・インスチチユート・オブ・テクノロジー

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