特許

J-GLOBAL ID：200903023966589103

エッチングの均一性を向上するための誘導プラズマの増強構造

発明者： ムンド, ランドル, エス. ,  ケール, デイビッド, アール. ,  レンズ, エリック, ハワード
出願人/特許権者： ラム リサーチ コーポレイション
代理人 (1件)： 大塚 康徳 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-514588
公開番号（公開出願番号）：特表平9-505690
出願日： 1994年11月17日
公開日（公表日）： 1997年06月03日
要約：

【要約】プラズマ放電電極(8)は、その中央部分に前側表面を有し、その中央部分はプラズマを形成する反応ガスを放出するための出口と実質的にその出口を囲む周辺部分(12)とを含む。この周辺部分(12)は、電極(8)により形成されるプラズマ密度を局部的に増強するための少なくとも1つの凹部(30)を有する。この凹部(30)は置換可能な挿入部材に形成可能であり、この電極(8)はシリコン単結晶から作ることが可能である。

請求項（抜粋）：

プラズマ反応室に用いられる電極であって、 前記電極の露出表面の外方に反応ガスを放出するための該電極の中央部分の1つ又はそれ以上の出口と、 前記電極の露出表面に近接して形成される局部的なプラズマ密度を形状的に増強するために前記電極の周辺部分に配置されるプラズマ増強手段とを具備する。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00

FI (2件)：

H01L 21/302 B ,  C23F 4/00 A

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-194526
  
• 特開昭64-004481
  
• 特開平2-194526
  
• 特開昭64-004481