特許

J-GLOBAL ID：200903023976911690

基板乾燥装置及びその方法

発明者： 森西 健也 ,  大谷 正美 ,  森田 彰彦
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 下出 隆史 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-044412
公開番号（公開出願番号）：特開平11-233480
出願日： 1998年02月10日
公開日（公表日）： 1999年08月27日
要約：

【要約】【課題】 所定のガスの吹き付けによる洗浄液を飛散させる効果を十分に引き出して、基板乾燥に要する時間を短縮することかできるようにする。【解決手段】 、電動モータ51が回転して支持アーム57を回動し、N2吐出用ノズル71を待機位置Wから開始位置Sに移動させる。N2吐出用ノズル71は開始位置Sに移動した後、吐出口71aからN2の吐出を開始する。吐出されたN2は、基板11の回転中心Oに向かって吹き付けられる。これによって、基板11の回転中心Oの近傍に付いている洗浄液は周辺部に向かって飛散する。電動モータ51によって支持アーム57がさらに回動すると、N2吐出用ノズル71は、開始位置Sから円弧上に沿って矢印G方向に向かって徐々に移動する。これに伴って、N2の吹き付け位置も基板11の回転中心Oから周辺に向かって徐々に移動し、基板11の表面に付いている洗浄液はさらに周辺部に向かって飛散する。

請求項（抜粋）：

洗浄液によって洗浄された基板を回転させ、前記基板に付いている前記洗浄液を遠心力により飛散させることにより、前記基板を乾燥させることが可能な基板乾燥装置であって、前記基板の回転前,回転中または回転後に、ガス吐出口より所定のガスを吐出して前記基板に吹き付け、前記基板に付いている前記洗浄液を前記ガスによって飛散させるノズルと、該ノズルを、少なくとも前記基板の外縁よりも外側に設定された待機位置と前記基板の回転中心付近との間で移動させるノズル移動手段と、を備える基板乾燥装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304

FI (2件)：

H01L 21/304 651 B ,  H01L 21/304 651 L