特許

J-GLOBAL ID：200903023981619760

質量分析装置用のイオン源およびイオン源の洗浄方法

発明者： バジック ステバン
出願人/特許権者： マスラボ リミテッド
代理人 (1件)： 吉田 研二 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-511844
公開番号（公開出願番号）：特表2001-502114
出願日： 1998年08月06日
公開日（公表日）： 2001年02月13日
要約：

【要約】低圧質量分析装置用のイオン源は、比較的高圧で動作して目的の試料イオンを含む試料流を注入オリフィスを介して質量分析装置に与える大気圧試料イオン化器を含む。試料流は、クロマトグラフィ用緩衝液として溶出されるか、または試料抽出副産物として検体中に現れる一定の不揮発性成分を含む。試料イオンがオリフィスを通って高圧領域から低圧領域へと進むと、不揮発性成分は注入オリフィス周辺領域に堆積する。洗浄液搬送用の導管は、注入オリフィスに隣接して開口を有し、イオン源の動作時にオリフィス部材の表面の少なくとも一部上に洗浄液を与える。

請求項（抜粋）：

低圧質量分析装置用のイオン源であって、 比較的高圧で動作して、不要な気体および液滴が混入した所定の試料イオンを含む試料流を与える大気圧試料イオン化器と、 前記試料イオン化器と前記質量分析装置との間に注入オリフィスを規定するオリフィス部材と、 洗浄液を運ぶ導管と、 前記導管への接続に適した洗浄液リザーバと、を含み、 前記導管は、前記オリフィス部材の注入オリフィスに隣接して、前記イオン化器の動作時に前記オリフィス部材の表面の少なくとも一部上に洗浄液を与える開口を備えることを特徴とするイオン源。

IPC (4件)：

H01J 49/10 ,  G01N 27/62 ,  G01N 30/72 ,  H01J 49/04

FI (5件)：

H01J 49/10 ,  G01N 27/62 X ,  G01N 27/62 G ,  G01N 30/72 C ,  H01J 49/04

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 液体クロマトグラフ質量分析計
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-097348   出願人：株式会社日立製作所, 日立計測エンジニアリング株式会社
• 液体クロマトグラフ質量分析計
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-282056   出願人：株式会社日立製作所, 日立計測エンジニアリング株式会社
• 特開昭60-241634
  
• 特開平1-276560