特許
J-GLOBAL ID：200903023983254980
レーザテキスチャ装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-330204
公開番号（公開出願番号）：特開平9-168884
出願日： 1995年12月19日
公開日（公表日）： 1997年06月30日
要約：
【要約】【課題】 磁気記録媒体の製造過程で行われるテキスチャ加工をレーザ光により行うレーザテキスチャ装置において、光源に半導体レーザを用いること。【解決手段】 複数の半導体レーザ光発振源、各発振源から発振されたレーザ光を光ファイバーを介して結束ファイバーに結束するカップリング機構、カップリング機構で得られるファイバーレーザ光から平行光線束を得るコリメータ、該平行光線束を集光する集光機構、及び、前記基板を支持する基板支持機構を備えてなることを特徴とするレーザテキスチャ装置。
請求項（抜粋）：
非磁性基板上に、少なくとも磁性層を有し、必要に応じて他の層を設けた磁気記録媒体の、非磁性基板、磁性層又は他の層の表面に、半導体レーザ光を集光照射しテキスチャ加工を施すためのレーザテキスチャ装置であって、複数の半導体レーザ光発振源、各発振源から発振されたレーザ光を光ファイバーを介して結束ファイバーに結束するカップリング機構、カップリング機構で得られるファイバーレーザ光から平行光線束を得るコリメータ、該平行光線束を集光する集光機構、及び、前記基板を支持する基板支持機構を備えてなることを特徴とするレーザテキスチャ装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B23K 26/08 K
, G11B 5/84 A
