特許
J-GLOBAL ID：200903023984443671
光ファイバ実装型光導波路回路及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
加藤 朝道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-278611
公開番号（公開出願番号）：特開平8-122552
出願日： 1994年10月19日
公開日（公表日）： 1996年05月17日
要約：
【要約】【目的】コアがクラッドによって埋め込まれた光導波路と光ファイバに無調整で高効率に結合する光ファイバ実装型光導波路回路及びその製造方法の提供。【構成】光導波路コアパターンと光ファイバ支持用のSiのV溝形成マスクパターンをコア層堆積後に同時にパターン化し、光導波路コア3f形成後にこれをクラッド3gによって埋め込む。更に、光導波路コアと正確に位置決めされたSiのV溝形成用マスク7を、エッチングによって光導波路端面13aの形成と同時に形成する。
請求項（抜粋）：
Si基板上に光導波路と光ファイバを実装するためのSiのV溝が形成されている光ファイバ実装型光導波路回路の製造方法において、(a) 光導波路コア層の堆積後に光導波路コアパターンとSiのV溝形成用マスクパターンを同時にパターン化をする工程と、(b) 前記V溝形成用マスクパターンの部分のマスクは残して光導波路コアパターンの部分のみのマスクを除去する工程と、(c) 光導波路コアの上面と側面を前記光導波路コアより屈折率の低い材料で埋め込む工程と、(d) エッチングにより光導波路端面の形成とSiのV溝形成用マスクとなる光導波路層からなるブロックの形成を同時に行う工程と、(e) 前記ブロックをマスクに用いてSiの異方性エッチングをする工程と、を有することを特徴とする光ファイバ実装型光導波路回路の製造方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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