特許
J-GLOBAL ID：200903023987498272
基板処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
生形 元重 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-320748
公開番号（公開出願番号）：特開2003-124184
出願日： 2001年10月18日
公開日（公表日）： 2003年04月25日
要約：
【要約】【課題】 水洗部の下流側でエアナイフによる水切りを行う場合に問題となるパーティクルの再付着を防止する。【解決手段】 水洗処理部50の下流側にエアナイフによる水切り部60を設ける。水切り部60の少なくとも水切り位置より下流側の槽底部分に純水70を滞留させる。槽底部分に供給された純水70をオーバーフローさせる。エアナイフによる水切りに伴ってナイフ下流側のドライ領域に侵入した細かな水滴が、槽底部分に滞留する純水70中に落下し、その乾燥が防止されることにより、水滴中のパーティクルの飛散が防止される。
請求項（抜粋）：
基板を水平方向へ搬送して複数の処理部に通過させ、複数の処理部の少なくとも1つで水洗処理を行うと共に、水洗処理部の下流側にエアナイフによる水切り部を設けた水平搬送式の基板処理装置において、前記水切り部を、少なくとも水切り位置より下流側の槽底部分に水が滞留する貯水構造としたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B08B 3/02 C
, H01L 21/306 J
3B201AA02
, 3B201AB14
, 3B201BB24
, 3B201BB93
, 3B201CC12
, 5F043AA40
, 5F043BB27
, 5F043DD12
, 5F043DD30
, 5F043EE40
, 5F043GG10
