特許
J-GLOBAL ID：200903024010838101
光導波路表面上にしみ出したエバネッセント光の強度分布を測定する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-022049
公開番号（公開出願番号）：特開平11-218491
出願日： 1998年02月03日
公開日（公表日）： 1999年08月10日
要約：
【要約】【課題】エバネッセント光を利用して光導波路の表面上に直接又は間接的に拘束された蛍光物質の定量や定性を行う蛍光分析装置において、光導波路や励起光等に応じて決定される、励起光や蛍光物質からの蛍光が光導波路を伝搬する際のエバネッセント光のしみ出し距離を測定する方法を提供する。【解決手段】エバネッセント光を利用する光導波路表面上の蛍光分析装置における、光導波路表面上にしみ出したエバネッセント光の強度分布を測定する方法であり、(1)該光導波路の該表面に、該光導波路を構成する材料よりも小さい屈折率を有し、かつ、励起光及び蛍光を透過し得る均一な厚さの膜を形成し、該膜の外側表面に分析対象である蛍光物質を均一に付着させることで該蛍光物質と光導波路表面間の物理的な距離を制御し、(2)前記蛍光物質からの蛍光強度を測定し、(3)前記膜の厚さのみを変更して蛍光強度を測定し、膜の厚さに従って蛍光強度が変化する様子を求める、という各操作を含む方法。
請求項（抜粋）：
エバネッセント光を利用する光導波路表面上の蛍光分析装置における、光導波路表面上にしみ出したエバネッセント光の強度分布を測定する方法であり、(1)該光導波路の該表面に、該光導波路を構成する材料よりも小さい屈折率を有し、かつ、励起光及び蛍光を透過し得る均一な厚さの膜を形成し、該膜の外側表面に分析対象である蛍光物質を均一に付着させることで該蛍光物質と光導波路表面間の物理的な距離を制御し、(2)前記蛍光物質からの蛍光強度を測定し、(3)前記膜の厚さのみを変更して蛍光強度を測定し、膜の厚さに従って蛍光強度が変化する様子を求める、という各操作を含むことを特徴とする、前記方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N 21/64 Z
, G01N 21/27 C
