特許
J-GLOBAL ID：200903024012682818
基板の洗浄方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田治米 登 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-148692
公開番号（公開出願番号）：特開平5-314547
出願日： 1992年05月14日
公開日（公表日）： 1993年11月26日
要約：
【要約】【目的】 光ディスク原盤の製造に使用するガラス基板をはじめとして種々の基板類をディッピングにより洗浄する場合に、短時間で効率良く洗浄できるようにする。【構成】 基板をディッピング液に浸漬して洗浄する基板の洗浄方法において、基板をディッピング液中で支持台に載せ、その基板が支持台により支持される位置を変化させるようにする。ディッピング液中5、8で基板が支持台により支持される位置を変化させる方法としては、基板1をその基板に対する支持位置が異なる複数の支持台3a、3b、3cに載せ換えてもよく、また、基板を一の支持台に載せ、その支持台により基板が支持される位置が変わるように基板を回転させてもよい。
請求項（抜粋）：
基板をディッピング液に浸漬して洗浄する基板の洗浄方法において、基板をディッピング液中で支持台に載せ、その基板が支持台により支持される位置を変化させることを特徴とする基板の洗浄方法。
IPC (3件)：
G11B 7/26 521
, B05D 3/10
, B08B 3/04
