イオン注入装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-011498
公開番号（公開出願番号）：特開平5-205691
出願日： 1992年01月27日
公開日（公表日）： 1993年08月13日
要約：

【要約】【目的】イオン注入装置のイオンビーム中和機構において、効率良く、安定したイオンビームの中和性能を得る。【構成】イオンビーム中和機構を、イオンビームの中心軸と同軸円筒面上に配置されたフィラメント2と、フィラメントのさらに外側の同軸円筒面上に配置した電極1と、フィラメントを加熱するフィラメント電源4と、電極の電位を該フィラメントの電位より低電位にする電極電源5とを具備して構成する。【効果】中和する電子のエネルギーが低いため、イオンビームの中和が効率良く行なわれる。又、構成部品の表面状態の影響を受けにくいため、安定した性能を維持できる。

請求項（抜粋）：

正に荷電したイオンビームを中和するイオンビーム中和機構を有するイオン注入装置において、前記イオンビーム中和機構は、イオンビームの中心軸と同軸円筒面上に配置されたフィラメントと、該フィラメントのさらに外側の同軸円筒面上に配置した電極と、該フィラメントを加熱するフィラメント電源と、該電極の電位を該フィラメントの電位より低電位にする電極電源とを有することを特徴とするイオン注入装置。

IPC (2件)：

H01J 37/317 , H01L 21/265

FI (2件)：

H01L 21/265 D , H01L 21/265 N

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭63-221539
特開昭63-225455
特開平1-296545

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