特許
J-GLOBAL ID：200903024021151248
マスク用基板
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 秀和 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-160537
公開番号（公開出願番号）：特開平5-011431
出願日： 1991年07月01日
公開日（公表日）： 1993年01月22日
要約：
【要約】【目的】 パターン精度の高い位相シフトマスクを形成し得るマスク用基板を提供する。【構成】 基板1上に、透明導電層2と金属遮光体層4とを順次積層してなる位相シフトマスク用のマスク用基板において、前記透明導電層1と前記金属遮光体層4との中間に絶縁層3を形成したことを特徴とする。【効果】 金属遮光体層をエッチングする際の電気化学反応による異常エッチング領域の発生、および位相シフト材料のパターン加工時におけるチャージアップによるパターン変形の発生を、併せて効果的に抑制することが可能であり、パターン精度がきわめて高い位相シフトマスクを形成することができる。
請求項（抜粋）：
基板上に、透明導電層と金属遮光体層とを順次積層してなり、位相シフトマスクの形成に用いるマスク用基板において、前記透明導電層と前記金属遮光体層との中間に絶縁層を形成したことを特徴とするマスク用基板。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G03F 1/14
, H01L 21/027
