特許
J-GLOBAL ID：200903024034611833
蒸気対酸素を調節自在な製造を伴う個体電解質イオン導体
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
倉内 基弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-326497
公開番号（公開出願番号）：特開平11-236579
出願日： 1998年11月17日
公開日（公表日）： 1999年08月31日
要約：
【要約】【課題】 イオン搬送分離器の透過物側を蒸気パージすることにより酸素回収を増長させ、下流側プロセスのための適宜の蒸気対酸素比を発生させることを可能とすること。【解決手段】 イオン搬送モジュール7が、酸素を含む加熱ガス流れ6から酸素を分離し、透過物ガス流れ16と、窒素リッチな残留物ガス流れ8とを生成すると同時に、蒸気を含むガス流れ15を使用してイオン搬送膜7の透過物側7bがパージされ、蒸気及び酸素を含む透過物ガス流れ1が生成される。パージ流れの圧力がガス化装置の圧力以上であると、透過物ガス流れ16は第1の部分流れ17と第2の部分流れ18とに分割される。第1の部分流れ17は純酸素流れ24と混合して石炭ガス化プロセスの要求する蒸気対酸素比率とした後、混合流れ26として石炭ガス化装置27に注入する。
請求項（抜粋）：
酸素及び蒸気を所望の比率で含むガス流れを生成するための方法であって、(a)元素酸素を含む送給ガス流れを加圧すること、(b)送給ガス流れを加熱すること、(c)残留物側及び透過物側を有するイオン搬送膜を含む少なくとも1つのイオン搬送モジュールを使用して、加熱された送給ガス流れを、残留物側における酸素減損ガス流れと、透過物側における酸素含有ガス流れとに分離すること、(d)蒸気を含むパージガス流れを使用してイオン搬送膜の透過物側をパージすることにより、酸素及び蒸気を含むガス流れを生成すること、(e)該酸素及び蒸気を含むガス流れの少なくとも第1部分を下流側プロセスに送ること、(f)別の酸素流れを前記蒸気を含むパージガス流れの第1部分と混合させることにより下流側プロセスのために所望される蒸気対酸素比を創出すること、を含む酸素及び蒸気を所望の比率で含むガス流れを生成するための方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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