特許

J-GLOBAL ID：200903024057726093

ジベンゾチオフェン化合物、中間体およびその製造方法

発明者： 関根 千津 ,  岩倉 和憲 ,  南井 正好 ,  藤沢 幸一
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 酒井 一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-052954
公開番号（公開出願番号）：特開2002-255960
出願日： 2001年02月27日
公開日（公表日）： 2002年09月11日
要約：

【要約】【課題】光学機能性材料として有用な、3,7-位に反応性に富む2置換基を有する新規なジベンゾチオフェン化合物、その中間体及びその高選択的な製造法を提供すること。【解決手段】式(1)または(2)のジベンゾチオフェン化合物、式(3)又は(4)で示されるジベンゾチオフェンオキシド類、又はこれらの製造方法。【化1】(A1〜A6:H、F等、X:ハロゲン原子、Y:ハロゲン原子等)

請求項（抜粋）：

式(1)で示されるジベンゾチオフェン化合物。【化1】(式中、A1〜A6は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜10のアルキル基又はアルコキシ基を表し、Xはハロゲン原子を表し、Yはハロゲン原子又は水酸基を表す。)

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特許第1180743号
  
• 特開平2-017184
  
• 特許第1180743号
  
• 特開平2-017184
  

引用文献：

審査官引用 (1件)

• NMR spectroscopy in environmental chemistry: 1H and 13C NMR chemical shift assignments of chlorinate