特許

J-GLOBAL ID：200903024073433080

液晶表示装置及びその製造方法

発明者： 木村 謙一 ,  尾関 忠敏 ,  藤井 利夫
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (3件)： 前田 弘 ,  小山 廣毅 ,  竹内 祐二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-074990
公開番号（公開出願番号）：特開2004-280006
出願日： 2003年03月19日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：

【課題】スペーサと突起部を一括して形成する液晶表示装置の製造方法に関し、ベーク処理によるスペーサの変形を防止することでスペーサの高さのばらつきを防止するとともに、上記突起部を所望の形状に変形させることを課題とする。【解決手段】基板上にネガ型フォトレジスト層40を形成する工程と、第1のマスク41を用いて、上記ネガ型フォトレジスト層40の、スペーサ35が形成される領域と、液晶材料のプレチルトを制御する突起部36が形成される領域に露光する第1の露光工程と、上記ネガ型フォトレジスト層40を現像する工程と、第2のマスク42を用いて、上記スペーサ35が形成される領域に残った残膜にのみ露光し、該領域の残膜の硬化を上記突起部36が形成される領域の残膜の硬化よりも促進させる第2の露光工程と、上記基板をベーク処理する工程とを含む、液晶表示装置の製造方法である。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

対向する一対の基板間に液晶材料を封入した液晶表示装置の製造方法であって、 一方の基板上にネガ型フォトレジスト層を形成する工程と、 第1のマスクを用いて、上記ネガ型フォトレジスト層の、上記基板間のセルギャップを保持するスペーサが形成される領域と、上記液晶材料のプレチルトを制御する突起部が形成される領域に露光する第1の露光工程と、 上記ネガ型フォトレジスト層を現像し、上記スペーサが形成される領域と、上記突起部が形成される領域にネガ型フォトレジスト層の残膜を形成する工程と、 第2のマスクを用いて、上記スペーサが形成される領域に残った残膜にのみ露光し、該領域の残膜の硬化を上記突起部が形成される領域の残膜の硬化よりも促進させる第2の露光工程と、 上記残膜が形成された基板をベーク処理し、スペーサが形成される領域に残った残膜を硬化させてスペーサを形成するとともに、上記突起部が形成される領域に残った残膜を軟化させて断面形状がドーム型の突起部を形成する工程とを含む、液晶表示装置の製造方法。

IPC (3件)：

G02F1/1339 ,  G02F1/1337 ,  G03F7/40

FI (3件)：

G02F1/1339 500 ,  G02F1/1337 ,  G03F7/40 501

Fターム (27件)：

2H089LA09 ,  2H089LA16 ,  2H089MA04X ,  2H089NA13 ,  2H089NA14 ,  2H089QA03 ,  2H089QA04 ,  2H089QA11 ,  2H089QA12 ,  2H089QA13 ,  2H089QA14 ,  2H089QA15 ,  2H089SA10 ,  2H090HA14 ,  2H090HB07Y ,  2H090HC12 ,  2H090HC18 ,  2H090HD14 ,  2H090MA01 ,  2H096AA27 ,  2H096AA28 ,  2H096BA01 ,  2H096HA00 ,  2H096HA01 ,  2H096HA30 ,  2H096JA04 ,  2H096LA30