特許
J-GLOBAL ID:200903024086452920

疎水性非凝集コロイドシリカの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 曾我 道照 (外7名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-235874
公開番号(公開出願番号):特開2000-080201
出願日: 1999年08月23日
公開日(公表日): 2000年03月21日
要約:
【要約】【課題】 シリコーンゴムなどの硬化シリコーン組成物の伸びおよび引っ張り強さ等の物理特性を改善し、かつレープ硬化の傾向の少ない、硬化シリコーン組成物を提供すること。【解決手段】 本発明は、珪素化合物と親水性非凝集コロイドシリカの接触を促進する水混和性の有機溶媒が量的に十分存在する条件下、pH4未満で、珪素化合物と平均粒子直径が4nmより大きい親水性非凝集コロイドシリカの水性懸濁液とを反応させることを含む疎水性非凝集コロイドシリカの製造方法を開示する。本発明の方法では、反応は20〜250°Cの範囲の温度で、疎水性非凝集コロイドシリカを形成するのに十分な時間行われる。本発明の疎水性非凝集コロイドシリカは、接着剤、ゴムおよびシーラントを含むシリコーンまたは有機組成物における強化および増量充填物として特に有用である。
請求項(抜粋):
下記化学式(1)R1aHbSiX4-a-b (1)で表わされるオルガノシラン類、および下記化学式(2)R1nSiO(4-n)/2 (2)で表わされるオルガノシロキサン類からなる群から選択された珪素化合物[式中、各R1 は独立して炭素原子数1〜12個の炭化水素基または有機官能基を含む炭素原子数1〜12個の炭化水素基から選択され、各Xは独立してハロゲン原子または1〜12個の炭素原子を含むアルコキシ基から選択され、aは0、1、2または3であり、bは0または1であり、a+bは1、2または3であり(ただし、b=1の場合はa+bは2または3である)、そしてnは2または3である]と、平均粒子直径が4nmより大きい親水性非凝集コロイドシリカの水性懸濁液とを、該珪素化合物と親水性非凝集コロイドシリカの接触を促進するために十分な量の、水と混和性の有機溶媒の存在下、pH4未満のpHにおいて、20〜250°Cの範囲の温度で、疎水性非凝集コロイドシリカを形成するのに十分な時間、反応させることを含む疎水性非凝集コロイドシリカの製造方法。
IPC (3件):
C08K 3/34 ,  C08L 83/04 ,  C09C 1/28
FI (3件):
C08K 3/34 ,  C08L 83/04 ,  C09C 1/28

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