特許
J-GLOBAL ID：200903024094397342
描画用マスクパタンデータ生成方法とその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-001564
公開番号（公開出願番号）：特開平11-194480
出願日： 1998年01月07日
公開日（公表日）： 1999年07月21日
要約：
【要約】【課題】設計マスクパタンデータを電子ビーム描画用マスクパタンデータに変換する処理に時間がかかり、より高速化したい。【解決手段】図形演算処理の処理単位とされる各線分は、パタンデータ全体を複数分割して得られる部分領域ごとに、平衡二分木構造のデータとして記憶する。この部分領域は、パタンデータをX軸方向にm個に均等に分割して形成する。その領域の中で線分が集中している領域は、さらにこれを分割して、分割された各領域ごとに平衡二分木構造のデータを形成する。
請求項（抜粋）：
少なくともマスクパタンの輪郭を示す線分を含む線分で示されたマスクパタンデータより、描画用マスクパタンデータを生成する方法であって、前記マスクパタンデータの線分より所定の方向の線分以外の線分を抽出し、前記抽出された各線分を、当該各線分の両端点を通過する前記所定の方向と平行な線で分割し、前記マスクパタンの領域を前記所定の方向に複数の領域に分割し、前記分割された各領域ごとに、当該領域に存在する前記分割された各線分を、平衡二分木構造により記憶し、前記各領域ごとに平衡二分木構造により記憶されている各線分をアクセスし、当該分割された各線分を処理単位として所望の図形演算処理を行い、前記図形演算処理の結果に基づいて、マスクパタンの輪郭が線分で示された描画用マスクパタンデータを生成する描画用マスクパタンデータ生成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
