パタン検査装置及び検査方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：三好秀和 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-058551
公開番号（公開出願番号）：特開平11-260685
出願日： 1998年03月10日
公開日（公表日）： 1999年09月24日
要約：

【要約】【課題】パタン位置精度を、高分解能かつ十分なスループットで評価する。【解決手段】参照データを生成する参照データ生成部31と、センサデータを生成するセンサデータ生成部32と、参照データとセンサデータとを互いに乗算する乗算器21とを備えている。参照データ生成部31は、非測定試料を保持したステージの位置座標及び2次元図形データの設計データを入力する入力装置11と、この位置座標及び2次元図形データを変換して参照データを生成する参照データ発生回路13と、この参照データから第1のオフセット値を引き算する第1の引き算回路14とを有している。また、センサデータ生成部32は、非測定試料3上のパタンからの光学信号を電気信号に変換する光電変換器15と、光電変換器15に接続されたA/D変換器16と、A/D変換器16の出力から第2のオフセット値を引き算する第2の引き算回路17とを有している。

請求項（抜粋）：

一定方向にピッチpのライン/スペースを有する非測定試料上のパタンの光学像を光電変換し、センサデータを生成するセンサデータ生成部と、前記非測定試料を保持したステージの位置座標及び2次元図形データの設計データを入力し、該位置座標もしくは2次元図形データを変換して、ピッチqのライン/スペースを有する参照データを生成する参照データ生成部と、前記センサデータと前記参照データとを互いに乗算する乗算器とを少なくとも有することを特徴とするパタン検査装置。

FI (2件)：

H01L 21/30 525 W , H01L 21/30 502 V

引用特許：

審査官引用 (7件)

X線マスク検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-140981 出願人：株式会社ニコン
特開平4-100044
欠陥検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-274285 出願人：株式会社ニコン

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