走査型露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：田辺恵基
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-121069
公開番号（公開出願番号）：特開平9-283436
出願日： 1996年04月18日
公開日（公表日）： 1997年10月31日
要約：

【要約】【課題】本発明は、走査型露光装置において、レチクルと基板とを同期して走査中の基板に対するレチクルの変位による投影パターンの結像不良を防止する。【解決手段】走査中のレチクル上面の高さをレチクル変位測定手段によつて3次元的にリアルタイムで測定し、測定して得た第2の方向の位置情報に基づいて、レチクル載置手段に配されたレチクル移動手段によつてレチクルを第2の方向に同一高さ補正あるいはチルト補正して、投影光学系とレチクルとの間隔を一定に維持する。

請求項（抜粋）：

パターンが形成されたレチクルを載置するレチクル載置手段と、上記レチクルを照明して得た光束を基板に投影する投影光学系と、上記基板を載置する基板載置手段とを有し、上記レチクル載置手段と上記基板載置手段とを同期して上記投影光学系に対して相対的に第1の方向に走査して上記パターンを上記基板面上に露光する走査型露光装置において、上記走査のときの、上記基板の面内方向と直交する第2の方向に沿つた上記レチクルの変位を測定するレチクル変位測定手段と、上記レチクル載置手段に配され、上記測定結果に基づいて、上記レチクルを上記第2の方向に沿つて移動させる、及び又は上記基板の面内方向に対して傾斜させるレチクル移動手段とを具え、上記走査のとき上記投影光学系と上記レチクルとの間隔を一定に維持することを特徴とする走査型露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (5件)：

H01L 21/30 518 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 515 D , H01L 21/30 516 A , H01L 21/30 525 X

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