特許

J-GLOBAL ID：200903024138842330

アルコール化合物の製造法

発明者： 大寺 純蔵
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-355755
公開番号（公開出願番号）：特開2001-172210
出願日： 1999年12月15日
公開日（公表日）： 2001年06月26日
要約：

【要約】【課題】 アルコール化合物の製造方法を提供すること。【解決手段】 一般式(1)R1COOR2(1)(式中、R1およびR2は、置換されていてもよいアルキル、アラルキル、アリール、アリル。)で示されるエステル化合物と一般式(2)R3OH(2)(式中、R3は置換されていてもよいアルキル、アラルキル、アリール、アリル。)で示されるアルコール化合物とを有機スズ化合物の存在下、反応させることによる一般式(3)R2OH(3)で示されるアルコール化合物の製造方法。

請求項（抜粋）：

一般式(1)R1COOR2(1)(式中、R1およびR2は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、シロキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アシル基もしくは低級アシルアミノ基で置換されていてもよいアルキル基;ハロゲン原子、低級アルコキシ基、シロキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アシル基もしくは低級アシルアミノ基で置換されていてもよいアラルキル基;または、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、シロキシ基、低級ハロゲン化アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アシル基もしくは低級アミノアシル基で置換されていてもよいアリール基;または、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、シロキシ基、低級ハロゲン化アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アシル基もしくは低級アミノアシル基で置換されていてもよいアリル基を表す。)で示されるエステル化合物と一般式(2)R3OH(2)(式中、R3はハロゲン原子もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよいアルキル基;ハロゲン原子もしくは低級アルコキシ基で置換されていてもよいアラルキル基;または、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、もしくは低級ハロゲン化アルキル基で置換されていてもよいアリール基;または、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基で置換されていてもよいアリル基を表す。)で示されるアルコール化合物とを有機スズ化合物の存在下、反応させることを特徴とする、一般式(3)R2OH(3)(式中、R2は前記と同じ意味を表す。)で示されるアルコール化合物の製造方法。

IPC (4件)：

C07C 27/02 ,  C07C 29/128 ,  C07C 33/22 ,  C07B 61/00 300

FI (4件)：

C07C 27/02 ,  C07C 29/128 ,  C07C 33/22 ,  C07B 61/00 300

Fターム (20件)：

4H006AA02 ,  4H006AC41 ,  4H006AC42 ,  4H006AD11 ,  4H006AD15 ,  4H006AD17 ,  4H006BA11 ,  4H006BA28 ,  4H006BA30 ,  4H006BA32 ,  4H006BA37 ,  4H006BA44 ,  4H006BB11 ,  4H006BB15 ,  4H006BB20 ,  4H006BB21 ,  4H006BC31 ,  4H006BC34 ,  4H039CA60 ,  4H039CE10