ホログラフイツク光学素子の作製方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：韮澤弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-156328
公開番号（公開出願番号）：特開平5-006134
出願日： 1991年06月27日
公開日（公表日）： 1993年01月14日
要約：

【要約】【目的】感光材料の各局所領域で2本の光束を干渉させることのより、全体として所望の光学特性のホログラフィック光学素子を作製する。【構成】同一光源からの2本の光束A、Bを感光材料1中の局所空間5において干渉させて局在する干渉縞を形成し、干渉領域を感光材料1中で相対的に移動させるとともにその位置に対応して少なくとも前記2本の光束A、Bの入射方向を制御しながら、同様に感光材料1中に局在する干渉縞の形成を繰り返すことにより、感光材料中に集合的な干渉縞を形成して、全体として所定の光学特性のホログラフィック光学素子を作製する。

請求項（抜粋）：

同一光源からの2本の光束を感光材料中の局所空間において干渉させて局在する干渉縞を形成し、干渉領域を感光材料中で相対的に移動させるとともにその位置に対応して少なくとも前記2本の光束の入射方向を制御しながら、同様に感光材料中に局在する干渉縞の形成を繰り返すことにより、感光材料中に集合的な干渉縞を形成して、全体として所定の光学特性の光学素子を作製することを特徴とするホログラフィック光学素子の作製方法。

IPC (2件)：

G03H 1/04 , G03H 1/02

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭61-262717
特開平3-064702
特開平2-072319

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