特許
J-GLOBAL ID:200903024151531239
固体撮像装置及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-269918
公開番号(公開出願番号):特開2001-094090
出願日: 1999年09月24日
公開日(公表日): 2001年04月06日
要約:
【要約】【課題】単位セル当たりのフォトダイオードの表面積を大きくして固体撮像装置の感度を向上させる。【解決手段】ゲート電極19はトレンチ構造となっており、このトレンチ12の側面にn-型の拡散層15aが形成されている。このため、電荷の転送部分となるn-型の拡散層15aからなるV-CCD15の単位セル10あたりの表面積は小さく、フォトダイオード21の単位セル10あたりの表面積を大きくすることができる。
請求項(抜粋):
半導体基板の表面領域に形成され、光電変換部を構成する第1の拡散層と、前記半導体基板の表面領域に前記第1の拡散層と所定間隔離間して形成された第2の拡散層と、前記第2の拡散層に隣接して形成されたトレンチと、前記トレンチの内側面及び前記第1、第2の拡散層の相互間の前記半導体基板上に形成された第1の絶縁膜と、前記トレンチ内及び前記半導体基板上の前記第1の絶縁膜上に一体的に形成されたゲート電極とを具備することを特徴とする固体撮像装置。
IPC (3件):
H01L 27/148
, H01L 27/146
, H04N 5/335
FI (3件):
H04N 5/335 U
, H01L 27/14 B
, H01L 27/14 A
Fターム (24件):
4M118AA01
, 4M118AA10
, 4M118AB01
, 4M118BA10
, 4M118BA14
, 4M118CA03
, 4M118DA03
, 4M118DA07
, 4M118DA18
, 4M118EA01
, 4M118EA07
, 4M118FA06
, 4M118FA26
, 4M118FA35
, 4M118GB11
, 4M118GC07
, 4M118GD04
, 5C024AA01
, 5C024CA12
, 5C024CA31
, 5C024DA01
, 5C024GA01
, 5C024GA12
, 5C024GA31
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