不活性ガス雰囲気半田付け方法及び装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：佐々木宗治 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-002104
公開番号（公開出願番号）：特開平6-207261
出願日： 1993年01月08日
公開日（公表日）： 1994年07月26日
要約：

【要約】【目的】従来装置への適用が可能、不活性ガスの消費量の減少、半田消費量の低減を可能とする。【構成】この発明は、被半田付け物9を噴流溶融半田4にて半田付けする方法において、被半田付け物9を溶融半田4より引上げ時に被半田付け物9下部の最小範囲内へ不活性ガスを吹き込み、不活性ガスを吹込み部の雰囲気を酸素濃度1000ppm以下の低酸素雰囲気とすることを特徴とした不活性ガス雰囲気半田付け方法であり、被半田付け物を噴流溶融半田にて半田付けする装置において、溶融半田の加熱溶解、噴流部2,3を有する半田槽1と半田槽上に被半田付け物を移送する装置5と、不活性ガス供給源7と接続されている不活性ガス注入ノズル6とからなり、被半田付け物9を溶融半田4より引上げ時に被半田付け物9下部の最小範囲内へ不活性ガスを吹き込むための位置に注入ノズル6を設け、被半田付け物9下部の最小範囲内部の雰囲気を酸素濃度1000ppm以下の低酸素雰囲気とすることを特徴とする不活性ガス雰囲気半田付け装置である。

請求項（抜粋）：

被半田付け物を噴流溶融半田にて半田付けする方法において、前記被半田付け物を前記溶融半田より引上げ時に被半田付け物下部の最小範囲内へ不活性ガスを吹き込み、該不活性ガス吹込み部の雰囲気を酸素濃度1000ppm以下の低酸素雰囲気とすることを特徴とする不活性ガス雰囲気半田付け方法。

IPC (6件)：

C23C 2/08 , B23K 1/08 320 , B23K 31/02 310 , C23C 2/10 , C23C 2/34 , H05K 3/34

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平4-339563
特開昭64-034577
特開昭62-267066

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