特許
J-GLOBAL ID：200903024157005229
位置計測作図装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
望月 秀人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-214508
公開番号（公開出願番号）：特開平6-034368
出願日： 1992年07月20日
公開日（公表日）： 1994年02月08日
要約：
【要約】【目的】 複数の位置に設定した位置計測作図装置によって取得された計測すべき位置の座標に係わる位置データを1つの座標系に合成して、1枚の平面図に作成する位置計測作図装置を提供すること。【構成】 1回目測定位置P1にてT1を原点光軸に設定した位置計測作図装置で第1座標を計測した基準点となる電柱51と街灯53を、2回目測定位置P2にてT2を原点光軸として測定する。上記基準点を第1座標に重ね合わせると、上記P1を原点(0、0、0)とする第1座標系における上記P2 座標(XX、YY、ZZ)と上記原点光軸T1とT2のなす角度S0 を求めることができる。このことにより2回目測定にて測定した関係対象物座標を第1座標系に置ける座標に変換できる。そして、計測された全ての対象物の座標を、1回目測定の座標系に変換した座標から平面図を作成すれば、複数の位置に設定した位置計測作図装置のそれぞれによって取得された位置データから1枚の平面図を作成できる。
請求項（抜粋）：
適宜位置に配されたターゲットに発光部から投光しその反射光を受光部で捕捉することにより該ターゲットまでの距離とその方向を計測して該ターゲットの空間座標を検出する位置検出手段を備え、該位置検出手段によって多数のターゲット位置に関して検出された多数の空間座標から平面図を作成する位置計測作図装置において、所定の対象物の位置を計測して平面図を作成する複数の位置計測作図装置により該対象物の位置を計測し、第2の位置計測作図装置で基準となる二つ以上の点の位置を計測して算出した第2座標を第1の位置計測作図装置で計測された第1座標に重畳させることにより、該第2の位置計測作図装置を設定した位置の第1の位置計測作図装置により計測された座標系における座標を演算し、第2の位置計測作図装置によって計測された対象物の座標を第1の位置計測作図装置により計測された座標系に合成することによって上記平面図を作成することを特徴とする位置計測作図装置。
引用特許：
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