特許

J-GLOBAL ID：200903024158368252

セクタ型二次イオン質量分析方法及び試料ホルダ

発明者： 大石 隆一
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 小池 隆彌
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-233623
公開番号（公開出願番号）：特開2001-056308
出願日： 1999年08月20日
公開日（公表日）： 2001年02月27日
要約：

【要約】【課題】 従来のSIMS測定を行った場合には、一次イオンと二次イオンが同じ極性である場合には、一次イオンの試料表面に平行な方向の速度成分が存在するため、一次イオンの入射エネルギーに二次引出電圧に比例した下限が存在し、一次イオンの入射エネルギーを下げるためには二次引出電圧を下げざるをえず、質量分析計の透過効率が下がるという問題があった。【解決手段】 本発明では、セクタ型二次イオン質量分析方法或いはセクタ型二次イオン質量分析装置に用いる試料ホルダとして、試料の法線方向を二次イオン光学軸の方向から一次イオン光学軸の方向に傾けたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

斜入射タイプのセクタ型二次イオン質量分析装置を用いた分析方法において、試料の法線方向を二次イオン光学軸の方向から一次イオン光学軸の方向に傾けたことを特徴とするセクタ型二次イオン質量分析方法。

IPC (5件)：

G01N 23/225 ,  G01N 1/28 ,  G01N 27/62 ,  H01J 37/252 ,  H01J 49/04

FI (5件)：

G01N 23/225 ,  G01N 27/62 B ,  H01J 37/252 B ,  H01J 49/04 ,  G01N 1/28 W

Fターム (21件)：

2G001AA05 ,  2G001BA06 ,  2G001CA05 ,  2G001DA02 ,  2G001GA02 ,  2G001GA08 ,  2G001GA09 ,  2G001GA13 ,  2G001JA14 ,  2G001KA01 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001PA01 ,  2G001QA01 ,  2G001QA02 ,  5C033QQ05 ,  5C038EE03 ,  5C038EF15 ,  5C038EF18 ,  5C038EF21 ,  5C038EF31