特許

J-GLOBAL ID：200903024173324644

透明導電薄膜の製造方法および装置

発明者： 阿相 順一 ,  荒井 芳博
出願人/特許権者： 東燃株式会社
代理人 (1件)： 久保田 耕平 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-215705
公開番号（公開出願番号）：特開平6-044836
出願日： 1992年07月22日
公開日（公表日）： 1994年02月18日
要約：

【要約】【目的】 低い抵抗率を有する透明導電薄膜を製造する方法および装置を提供する。【構成】 スパッタガスおよび反応ガスの雰囲気下で、基板上に、スパッタ製膜法によって透明導電薄膜を製造する方法において、基板上で該スパッタ製膜が間欠的に複数回行なわれる方法および装置。第1の装置は、ターゲット11を、回転する多角柱状のターゲットホルダー8の側面に設置し、その回りに基板4を搬送させる。第2の装置は、一定間隔で直列に設置した複数個のターゲット11の上を基板4を搬送させる。

請求項（抜粋）：

スパッタガスおよび反応ガスの雰囲気下で、基板上に、スパッタ製膜法によって透明導電薄膜を製造する方法において、該基板上において該スパッタ製膜が間欠的に複数回行なわれることを特徴とする方法。

IPC (6件)：

H01B 13/00 503 ,  C01G 19/00 ,  C23C 14/08 ,  C23C 14/34 ,  C30B 25/06 ,  H01B 5/14