特許
J-GLOBAL ID：200903024176312981
ポリマーブレンドによるナノ相分離構造体の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
津国 肇
, 束田 幸四郎
, 齋藤 房幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-111846
公開番号（公開出願番号）：特開2008-266469
出願日： 2007年04月20日
公開日（公表日）： 2008年11月06日
要約：
【課題】低コストで簡便な方法により、従来技術よりも大面積(数μm〜100μmオーダー)でナノスケールの周期的パターンを有する、ナノ相分離構造体の製造方法、及びそれにより得られるナノ相分離構造体を提供する。【解決手段】(a)結晶性ポリマー、結晶性ポリマーに相溶性のポリマー、及び結晶性有機溶媒との混合物を、基板上に配し、 ここで、ポリマー(P1)、(P2)及び溶媒(S)は、Tm-P>Tm-S>Tg-P(ここで、Tm-Pは、ポリマー(P1)又はポリマー(P2)の高いほうの融点を、Tm-Sは、溶媒(S)の融点を、Tg-Pは、ポリマー(P1)及び(P2)からなるポリマーブレンドのガラス転移点を意味する)の関係を満たし、(b)基板を、Tm-P以上の温度に保持し、(c)次いで基板を、Tm-Sより低く且つTg-Pより高い温度に冷却、保持することを含むことを特徴とする、ナノ相分離構造体の製造方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
ナノ相分離構造体の製造方法であって、
(a)結晶性ポリマー(P1)、前記結晶性ポリマーに相溶性のポリマー(P2)、及び結晶性有機溶媒(S)との混合物を基板上に配し、
ここで、ポリマー(P1)又は(P2)と、溶媒(S)とは、下記:
Tm-P>Tm-S>Tg-P
〔ここで、Tm-Pは、ポリマー(P1)の融点(Tm-P1)を意味するか、又はポリマー(P2)が、第二の結晶性ポリマーである場合には、Tm-P1と、第二の結晶性ポリマーの融点(Tm-P2)のいずれか高いほうの融点を意味し、Tm-Sは、溶媒(S)の融点を意味し、Tg-Pは、ポリマー(P1)及び(P2)からなるポリマーブレンドのガラス転移点を意味する〕の関係を満たすものであり、
(b)前記基板を、Tm-P以上の温度に保持し、
(c)次いで前記基板を、Tm-Sより低く且つTg-Pより高い温度に冷却、保持する
ことを含むことを特徴とする方法。
IPC (5件)：
C08L 67/04
, B82B 1/00
, B82B 3/00
, C08L 101/00
, C08K 5/00
C08L67/04
, B82B1/00
, B82B3/00
, C08L101/00
, C08K5/00
4J002BE04X
, 4J002BF02X
, 4J002BG06X
, 4J002CF03W
, 4J002CF18W
, 4J002CF18X
, 4J002CH02X
, 4J002DE026
, 4J002EA016
, 4J002EA036
, 4J002EB026
, 4J002EC016
, 4J002EC036
, 4J002EE036
, 4J002EL066
, 4J002EV206
, 4J002FD026
, 4J002GQ05
, 4J200AA09
, 4J200BA14
, 4J200CA03
, 4J200DA28
, 4J200DA29
, 4J200EA03
