特許
J-GLOBAL ID：200903024181494206
光ビーム走査光学系
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-050345
公開番号（公開出願番号）：特開平6-265808
出願日： 1993年03月11日
公開日（公表日）： 1994年09月22日
要約：
【要約】【目的】 光ビーム走査光学系のスリットに因る回折の集束ビーム形状への影響を抑制し、高解像度の画像露光を実現する。【構成】 光源1からの光ビーム23を反射させて偏向し走査を行う偏向手段4と、この偏向手段4の前後に配設され、かつ偏向手段以前に収束されている光ビーム23を前記偏向手段4を介し被走査面6上に結像させる第1、第2の結像光学系2、5とスリット3とを備え、前記第2の結像光学系5の偏向手段側焦点位置近傍に前記スリット3が配設されている。
請求項（抜粋）：
光源からの光ビームを反射させて偏向し走査を行う偏向手段と、この偏向手段の前後に配設され、かつ偏向手段以前に収束されている光ビームを前記偏向手段を介し被走査面上に結像させる第1、第2の結像光学系とスリットとを備えた光ビーム走査光学系であって、前記第2の結像光学系の偏向手段側焦点位置近傍に前記スリットが配設されていることを特徴とする光ビーム走査光学系。
IPC (4件)：
G02B 26/10 103
, G02B 26/10
, G02B 13/00
, G02B 13/18
