特許
J-GLOBAL ID：200903024187504319
フオトマスク用の石英ガラス基板
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
泉名 謙治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-327153
公開番号（公開出願番号）：特開平5-139779
出願日： 1991年11月15日
公開日（公表日）： 1993年06月08日
要約：
【要約】【目的】耐エッチング性に優れたフォトマスク用の石英ガラス基板。【構成】ハロゲン含有量が10ppm以下、OH含有量が100ppm以下、重金属およびアルカリの含有量の総計が1ppm以下であって、徐冷点が1150°C以上であり、かつ基板表面に、窒素、カーボン、アルミニウムのうちの少なくとも1種類をイオン注入してあることを特徴とするフォトマスク用の石英ガラス基板。
請求項（抜粋）：
ハロゲン含有量が10ppm以下、OH含有量が100ppm以下、重金属およびアルカリの含有量の総計が1ppm以下であって、徐冷点が1150°C以上であり、かつ基板表面に、窒素、カーボン、アルミニウムのうちの少なくとも1種類をイオン注入してあることを特徴とするフォトマスク用の石英ガラス基板。
IPC (2件)：
前のページに戻る
