特許

J-GLOBAL ID：200903024195018962

磁気ヘッドの製造方法

発明者： 片倉 亨
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-162919
公開番号（公開出願番号）：特開2000-353304
出願日： 1999年06月09日
公開日（公表日）： 2000年12月19日
要約：

【要約】【課題】 高密度磁気記録媒体に対応できる磁気ヘッドを製造する【解決手段】 下部磁極層5と上部磁極層5とをギャップ層6を介して積層形成し、磁気ギャップを構成してなる磁気ヘッドの製造方法において、下部磁極層5上にギャップ層6を形成した後、トラック幅に対応してパターニングされたトラック幅規制マスクを配する。そしてトラック幅規制マスクをマスクとして下部磁極層5の中途部までエッチングすることで下部磁極層5のトラック幅を規制し、上記トラック幅規制マスク上から非磁性材をギャップ層表面よりも突出するような厚さで成膜し、上記トラック幅規制マスクを除去し、上記トラック幅規制マスクの除去により形成される凹部を埋めるように磁性材料を成膜することにより上部磁極層6を形成する。

請求項（抜粋）：

下部磁極層と上部磁極層とをギャップ層を介して積層形成し、磁気ギャップを構成してなる磁気ヘッドの製造方法において、下部磁極層上にギャップ層を形成した後、トラック幅に対応してパターニングされたトラック幅規制マスクを配し、これをマスクとして下部磁極層の中途部までエッチングすることで下部磁極層のトラック幅を規制する工程と、上記トラック幅規制マスク上から非磁性材をギャップ層表面よりも突出するような厚さで成膜する工程と、上記トラック幅規制マスクを除去する工程と、上記トラック幅規制マスクの除去により形成される凹部を埋めるように磁性材料を成膜し、上部磁極層を形成する工程とを有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。

FI (2件)：

G11B 5/31 D ,  G11B 5/31 C

Fターム (5件)：

5D033BA08 ,  5D033BA13 ,  5D033DA02 ,  5D033DA08 ,  5D033DA31