基板処理装置及び基板処理方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森純一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-164052
公開番号（公開出願番号）：特開2000-082735
出願日： 1999年06月10日
公開日（公表日）： 2000年03月21日
要約：

【要約】【課題】異常に処理された基板を正確に取り出して検査等を行うことができ、更に通常の処理に先立ち先行処理された基板を正確に取り出して検査等を行うことができる基板処理装置及び基板処理方法の提供。【解決手段】処理前及び処理後の複数の基板を収容する第1の載置部に加えてプロセス部で異常に処理された複数の基板または通常の処理に先立ち先行処理された複数の基板を収容する第2の載置部を設ける。そして、異常に処理された基板または先行処理された基板を第2の載置部で回収するように構成している。

請求項（抜粋）：

処理前及び処理後の複数の基板を収容する第1の載置部と、前記基板を処理するプロセス部と、前記プロセス部で異常に処理された複数の前記基板を収容する第2の載置部と、前記第1の載置部と前記プロセス部と前記第2の載置部との間で前記基板を搬送する手段とを具備することを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 , H01L 21/027

FI (4件)：

H01L 21/68 A , H01L 21/30 562 , H01L 21/30 564 C , H01L 21/30 569 C

引用特許：

審査官引用 (4件)

処理方法及び塗布現像処理システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-252316 出願人：東京エレクトロン株式会社
基板の処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-151601 出願人：株式会社ニコン
処理装置及びその使用方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-354476 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社

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