特許
J-GLOBAL ID：200903024221852143
投影結像パターンの補正方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-203259
公開番号（公開出願番号）：特開平6-029180
出願日： 1992年07月08日
公開日（公表日）： 1994年02月04日
要約：
【要約】【目的】 通常の投影露光に加えて、位相シフト法,および斜入射照明方式による投影露光での結像パターンの歪みを判定して補正する。【構成】 一次元パターンに対しては、結像の光強度分布の対称成分,反対称成分の分解をなし、これらの分解された成分を結像歪みの判定,および補正に利用し、2次元パターンに対しては、結像の相互強度分布の実部での減衰振動の割合を結像歪みの判定に利用する。
請求項（抜粋）：
所要パターン形状のマスクを用い、投影光学系によってウエハ上にマスクパターンを投影結像させる際に、投影パターンの結像歪みを補正する方法において、前記マスクのパターン形状を入力する過程,および前記投影光学系の光学条件を入力する過程と、前記結像パターン上の複数の点を指定する過程,および結像光強度のスライスレベルを指定する過程と、前記指定されたそれぞれの各点の光強度に対して、マスクパターンの寄与が、1つの指定点の回りに対称に作用してできる光強度の対称成分を与える過程,および当該1つの指定点の光強度に対して、マスクパターンの寄与が、該当点の回りに反対称に作用してできる光強度の反対称成分を与える過程と、前記複数の指定点における光強度の対称成分,および反対称成分から、前記スライスレベルでの寸法誤差量を出力する過程とを含み、前記寸法誤差量をマスクパターンのデータに対する補正量にして、前記結像パターンの歪み補正を行なうことを特徴とする投影結像パターンの補正方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 311 L
, H01L 21/30 301 G
