特許
J-GLOBAL ID：200903024226793048
ステージ装置及び投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-110376
公開番号（公開出願番号）：特開平10-289942
出願日： 1997年04月11日
公開日（公表日）： 1998年10月27日
要約：
【要約】【課題】 ステージ移動面に直交する方向の基板載置面の移動ストロークの拡大を可能にする。【解決手段】 主制御系により、通常は、干渉計24の第1測長軸LB1Xの計測値に基づいて基板ステージ18の位置が管理され、基板Wの載置面が所定量以上下降した際には、干渉計24の測長軸を切り替えて、第2測長軸LB2Xの計測値に基づいてステージ18の位置が管理される。このため、干渉計24の第1測長軸が反射面22から外れる程、基板Wの載置面が下方に移動しても、干渉計s4の第2測長軸が反射面22から外れない限り、何らの不都合なくステージ18の位置を管理することが可能となる。
請求項（抜粋）：
基板を載置して所定の基準面内を少なくとも一方向に移動可能な基板ステージと;前記基板ステージに設けられた反射面を介して前記基板ステージの位置を計測する第1測長軸と、前記反射面の前記第1測長軸の投射位置より前記基準面に直交する第1軸方向の一側に投射される第2測長軸とを備えた干渉計システムと;前記干渉計システムの前記第1測長軸の計測値に基づいて前記基板ステージの位置を管理するとともに、前記基板の載置面が所定量以上前記第1軸方向の一側に移動する際には、前記干渉計システムの測長軸を切り替えて、前記第2測長軸の計測値に基づいて前記基板ステージの位置を管理する制御手段とを有するステージ装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/68 K
, H01L 21/30 520 A
