特許
J-GLOBAL ID：200903024228963110
X線マスク及びその製造方法並びにX線マスクブランク
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-187764
公開番号（公開出願番号）：特開平11-026362
出願日： 1997年06月28日
公開日（公表日）： 1999年01月29日
要約：
【要約】【課題】 酸を用いた洗浄工程やウエットエッチング工程において損傷を受けることのない反射防止膜等の機能性透明薄膜を備えたX線マスク及びX線マスクブランク等を提供する。【解決手段】 X線透過膜2、X線吸収体膜パターン5a、及び一以上の機能性透明薄膜(反射防止膜3等)を少なくとも有し、かつ、該機能性透明薄膜が酸性溶液に晒される酸処理工程を少なくとも有する製造工程を経て製造されたX線マスク12において、前記機能性透明薄膜を、酸化すずを主成分とする材料で構成する。
請求項（抜粋）：
X線透過膜、X線吸収膜パターン、及び一以上の機能性透明薄膜を少なくとも有し、かつ、該機能性透明薄膜が酸性溶液に晒される酸処理工程を少なくとも有する製造工程を経て製造されたX線マスクにおいて、前記機能性透明薄膜が、酸化すずを主成分とする材料からなることを特徴とするX線マスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 531 M
, G03F 1/16 A
