偏向歪み補正システム、偏向歪み補正方法、偏向歪み補正プログラム及び半導体装置の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：三好秀和 , 岩▲崎▼ 幸邦 , 川又澄雄 , 中村友之 , 伊藤正和 , 高橋俊一 , 高松俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-342369
公開番号（公開出願番号）：特開2005-109235
出願日： 2003年09月30日
公開日（公表日）： 2005年04月21日
要約：

【課題】優れた精度且つ短時間で偏向器による偏向歪みを補正することができる偏向歪み補正方法を提供する。【解決手段】初期設定として荷電粒子ビームを偏向する偏向領域を複数の初期ブロックに等分割する手順(S101)、複数の初期ブロック毎に荷電粒子ビームを偏向して照射たときに生ずる初期位置ずれ量を算出する手順(S102〜S104)、初期位置ずれ量の変化率に応じて偏向領域を複数の主ブロックに分割する手順(S105)、複数の主ブロック毎に荷電粒子ビームを偏向して照射したときに生ずる主位置ずれ量を算出する手順(S106〜S108)、主位置ずれ量に基づいて偏向歪みを補正するための補正値を算出する手順(S109)とを含む。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

初期設定として荷電粒子ビームを偏向する偏向領域を複数の初期ブロックに等分割する手順と、前記複数の初期ブロック毎に前記荷電粒子ビームを偏向して照射たときに生ずる初期位置ずれ量を算出する手順と、前記初期位置ずれ量の変化率に応じて前記偏向領域を複数の主ブロックに分割する手順と、前記複数の主ブロック毎に前記荷電粒子ビームを偏向して照射したときに生ずる主位置ずれ量を算出する手順と、前記主位置ずれ量に基づいて偏向歪みを補正するための補正値を算出する手順とを含むことを特徴とする偏向歪み補正方法。

IPC (6件)：

H01L21/027 , G03F1/08 , G03F7/20 , H01J37/147 , H01J37/305 , H01J37/317

FI (8件)：

H01L21/30 541D , G03F1/08 A , G03F1/08 C , G03F7/20 504 , H01J37/147 C , H01J37/305 B , H01J37/317 D , H01L21/30 502P

Fターム (11件)：

2H095BA01 , 2H095BB10 , 2H097BB03 , 2H097CA16 , 2H097LA10 , 5C033GG01 , 5C033GG05 , 5C034BB04 , 5C034BB07 , 5C034DD05 , 5F056CC02

引用特許：

出願人引用 (2件)

特公平7-111943号公報
特許第3388066号公報

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